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Research 박막재료 / 나노소자 |
E-mail jhan@seoultech.ac.kr |
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 학력 |
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| 서울대학교, 재료공학부 공학사, 2006 | ||
| 서울대학교, 재료공학부 공학박사, 2011 | ||
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서울대학교 BK사업단, 박사 후 연수 연구원, 2011 - 2012 |
| Interuniversity Micro-Electronics Center (IMEC, Belgium), Postdoctoral Researcher, 2012 - 2013 |
| 한국화학연구원(KRICT) 박막재료연구센터, 선임연구원, 2013 - 2017 |
| 서울과학기술대학교, 신소재공학과, 부교수, 2017 - 현재 |
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원자층증착법(ALD) / 화학기상증착법(CVD)을 이용한 반도체, 디스플레이, 에너지 소재 응용 연구 |
1) 디스플레이 박막트랜지스터 소자용 산화물 반도체 소재 개발 연구 |
2) DRAM 캐패시터 등 메모리 소자용 박막 소재 개발 연구 |
3) 분말 ALD를 이용한 에너지 소재 / 소자 (촉매, 배터리 등) 개발 연구 |
4) Selective Atomic Layer Deposition을 이용한 신소자 공정 / 구조 개발 연구 |
5) 신규 ALD 전구체 평가 및 Surface Chemistry 연구 |
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| "Development of oxide semiconductor thin film using atomic layer deposition and its device applications" supported by Korea Research Institute of Chemical Technology (KRICT) (2018. 01 - Present) |
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| "Development of core energy material platform for self-powering IoT devices" supported by Seoultech (2018. 02 - Present) |
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| "Development of new chemical processes of oxide semiconductors and thin film transistor devices for next generation displays" supported by National Research Council of Science & Technology (2017. 03 - 2017. 12) |
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| "저온 (100 ℃ 이하) ALD SiNx 박막 형성 기술 개발 및 이를 통한 Si precursors 개량" supported by Small and Medium Business Administration (2016. 09 - 2017.08) |
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| "The development of highly active and stable electrochemical catalysts by atomic layer deposition" supported by UST (2016. 12 - 2017. 08) |
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| "Development of semiconductor materials and devices with high mobility" supported by National Research Council of Science & Technology (2013. 12 - 2015. 11) |
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| "Development of a mass production compatible capacitor for next generation DRAM" supported by Ministry of Knowledge Economy (2009. 03 - 2013. 02) |
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| "Process development of ALD grown rare-earth metal based high-k gate dielectric for nanoscale logic transistor" supported by National Research Foundation of Korea (2012. 09 - 2013. 08) |
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| "차세대 capacitor 유전막의 누설 전류 개선 공정 개발" supported by samsung electronics (2010. 07 - 2011. 06) |
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| "SrTiO3 Atomic Layer Deposition 공정 조건 확보 및 물성 평가" supported by samsung electronics (2006. 03 -2008. 05) |
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